| 发明名称 | 使用像素交错排列和焦点调节的计算机断层成像 | ||
| 摘要 | 一种计算机断层成像设备包括具有检测器元件(50)的辐射检测器阵列(16)，上述检测器元件(50)在轴向(Z)上按照检测器轴向间距(dz)的被选非零交错量(ds)被交错排列。辐射源(12)至少在两个点(FS1、FS2)之间提供焦点调节，用于增大轴向(Z)横切方向上的采样率。 | ||
| 申请公布号 | CN100563569C | 申请公布日期 | 2009.12.02 |
| 申请号 | CN200580003416.8 | 申请日期 | 2005.01.12 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | D·J·霍伊谢尔;S·J·乌特拉普;G·舍希特;T·克勒 |
| 分类号 | A61B6/03(2006.01)I;G01N23/04(2006.01)I;G06T11/00(2006.01)I | 主分类号 | A61B6/03(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘 红;梁 永 |
| 主权项 | 1.一种计算机断层成像设备，包括：辐射检测器(16″)，其中该辐射检测器(16″)包括多个二维检测器模块(80)，每一个检测器模块(80)均包括多个线性检测器阵列，每一个线性检测器阵列均包括被沿轴向(Z)的检测器间距(dz)分隔开的多个检测器元件(50″)，线性检测器阵列在轴向(Z)的横切方向上被沿轴向(Z)的横切方向的检测器间距(du)分隔开，相邻线性检测器阵列沿轴向(Z)没有被交错排列，相邻检测器模块(80)沿轴向(Z)按照所述沿轴向(Z)的检测器间距(dz)的1/2被交错排列；辐射源(12)，该辐射源提供焦点调节用于增大轴向(Z)的横切方向上的采样率，其中所述焦点调节产生在轴向(Z)的横切方向上被间隔开的两个投影，该间隔的距离等于所述沿轴向(Z)的横切方向的检测器间距(du)乘以每个检测器模块(80)中的沿轴向(Z)的横切方向的线性检测器元件的数目；以及重建处理器，将利用投影获取的投影数据集重建为至少一个图像。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||