发明名称 一种硅薄膜太阳电池用宽带隙N型纳米硅材料及制备方法
摘要 一种硅薄膜太阳电池用宽带隙N型纳米硅材料及其制备方法。所述材料为磷或砷掺杂的N型宽带隙纳米硅薄膜。首先将待处理样品放入高真空沉积系统中,利用等离子体增强化学气相沉积方法,通过有效控制辉光功率和硅烷浓度等沉积参数制备出相应的材料。本发明通过辉光功率和硅烷浓度等参数的优化,达到有效控制材料的结构特征和光电性能,利用晶粒尺寸减小带来的纳米效应获得高电导率、宽带隙的N型纳米硅。本发明的有益效果是:将这种宽带隙纳米硅用作非晶硅电池的掺杂层,可以显著增强电池的内建电场,大大提高电池的开路电压,从而得到高光电转换效率的非晶硅太阳电池。
申请公布号 CN101510566A 申请公布日期 2009.08.19
申请号 CN200910068153.9 申请日期 2009.03.18
申请人 南开大学 发明人 侯国付;李贵君;耿新华;魏长春;赵颖
分类号 H01L31/028(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;H01L31/042(2006.01)I;C23C16/50(2006.01)I;C23C16/42(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;B32B7/02(2006.01)I 主分类号 H01L31/028(2006.01)I
代理机构 天津佳盟知识产权代理有限公司 代理人 颜济奎
主权项 1、一种硅薄膜太阳电池用宽带隙N型纳米硅材料,其特征在于:在依次具有衬底G、透明导电膜T,硼掺杂纳米硅窗口层P和本征硅基薄膜I的待处理样品的本征硅薄膜I层上有沉积层,厚度在10~50nm,晶粒尺寸5~50nm,晶化率5~50%,暗电导率0.001~5S/cm,激活能0.01~0.5eV,带隙宽度1.8~2.5eV。
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