| 发明名称 | 分散体及其稳定方法、二氧化硅及其改性方法、记录介质及表面涂层 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用以稳定含有二氧化硅或金属氧化物和硼的分散体的方法。本发明还涉及一种分散体、一种二氧化硅、一种改性二氧化硅的方法、一种记录介质以及一种表面涂层。 | ||
| 申请公布号 | CN100513303C | 申请公布日期 | 2009.07.15 |
| 申请号 | CN200480004847.1 | 申请日期 | 2004.02.12 |
| 申请人 | 瓦克化学股份公司 | 发明人 | 赫伯特·巴特尔;斯特凡·洛斯科特;马里奥·海涅曼;乌特·弗尔克尔 |
| 分类号 | C01B13/14(2006.01)I;C01B33/143(2006.01)I;C01B33/149(2006.01)I;B41M5/00(2006.01)I;D21H21/00(2006.01)I | 主分类号 | C01B13/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 过晓东 |
| 主权项 | 1、一种用以稳定含有二氧化硅的分散体的方法，其特征在于，基于所述分散体的重量，所述分散体含有0.00001至8重量％的硼。 | ||
| 地址 | 德国慕尼黑 | ||