发明名称 | 基板处理装置、基板处理方法、及记忆媒体 | ||
摘要 | 本发明旨在提供不使用复杂之机构而能高效率回收药液之基板处理装置及基板处理方法。依本发明,系在以可旋转之方式藉由基板固持部固持晶圆W并设有排液杯51以便包围晶圆W外侧之状态下,旋转晶圆W并对晶圆W进行药液清洗后,同样地旋转基板并供给冲洗液以进行冲洗处理,其后在旋转基板并对晶圆W进行药液处理时制程控制器121将其控制,俾使一开始以与冲洗处理时相同或在其以上之转速旋转晶圆W并供给药液以藉由药液清洗排液杯51,并透过排液管61废弃此时之药液,其后使晶圆转速为晶圆进行药液处理时之转速并进行基板之药液处理,切换切换阀111至回收线112侧以回收此时之排除液体。 | ||
申请公布号 | TW200919570 | 申请公布日期 | 2009.05.01 |
申请号 | TW097127760 | 申请日期 | 2008.07.22 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 难波宏光 |
分类号 | H01L21/304(2006.01);H01L21/68(2006.01);B08B3/08(2006.01) | 主分类号 | H01L21/304(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 周良谋;周良吉 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |