发明名称 发光二极体元件及其制法
摘要 本发明提供一种发光二极体元件及其制法,先于单晶氧化铝基板上成长氮化镓发光二极体结构,利用湿式蚀刻方式在基底产生多个V型沟槽,并沿着V型沟槽将单晶氧化铝基板分割而晶粒化,形成具有倾斜侧面基底的发光二极体元件。藉由基底之倾斜侧面可减少内部全反射的机率,使得发光二极体元件具有较佳的发光效率。
申请公布号 TW200820456 申请公布日期 2008.05.01
申请号 TW095138746 申请日期 2006.10.20
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 李政鸿;卓昌正;蔡政达;赖志铭
分类号 H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文;颜锦顺
主权项
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号