| 发明名称 | 基板处理装置和基板处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，该基板处理装置包括：基板保持单元，其用于保持基板；推拉板，其以隔开间隔的方式与所述基板保持单元所保持的基板的一个面相对向配置，在与所述一个面相对向的面上形成有喷出处理液的多个喷出口和吸引从所述喷出口喷出的处理液的多个吸引口；相对旋转单元，其使所述基板保持单元所保持的基板与推拉板相对旋转。 | ||
| 申请公布号 | CN101136320A | 申请公布日期 | 2008.03.05 |
| 申请号 | CN200710148564.X | 申请日期 | 2007.08.29 |
| 申请人 | 大日本网目版制造株式会社 | 发明人 | 内田博章 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/02(2006.01);H01L21/302(2006.01);H01L21/306(2006.01);H01L21/67(2006.01);B08B3/00(2006.01);G02F1/1333(2006.01);H01J9/00(2006.01);G11B7/26(2006.01);G11B5/84(2006.01);G03F1/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐恕 |
| 主权项 | 1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：基板保持单元，其用于保持基板；推拉板，其以隔开间隔的方式与所述基板保持单元所保持的基板的一个面相对向配置，该推拉板在与所述一个面相对向的面上形成有喷出处理液的多个喷出口和吸引从所述喷出口喷出的处理液的多个吸引口；相对旋转单元，其使所述基板保持单元所保持的基板与推拉板相对旋转。 | ||
| 地址 | 日本京都府京都市 | ||