化学气相沉积及其前驱物

摘要

本发明系在提供一种化学气相沉积及其前驱物，系特指适合化学气相沉积(特别是原子层沉积)氧化铪、氧化锆所用之前驱物具有如下一般方程式：(R1Cp)2MR2Cp代表环戊二烯基配位子cyclopentadienyl ligand，R1为Cp配位子H或一可取代的烷基、烷氧基或胺基amido group,R2为一烷基、烷氧基或胺基amido group，M为铪或锆。