| 发明名称 | 基于相移干涉测量法的光纤分析装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开用于检测试样溶液中分析物(46)的存在或数量或结合速率的装置和方法。所述装置包括具有相隔大于50nm的距离“d”的第一(42)与第二(40)反射表面的光学组件(26)，其中所述第一表面由一分析物结合分子层(44)形成；和用于将一光束射到所述第一和第二反射表面上的光源(22)。当将所述组件置于分析物溶液中时，所述装置中的检测器(28)运行，以通过检测从所述第一和第二表面所反射的光波的相位移来检测因分析物至所述分析物结合分子的结合而引起的所述第一反射层的厚度变化。 | ||
| 申请公布号 | CN1875243A | 申请公布日期 | 2006.12.06 |
| 申请号 | CN200480031823.5 | 申请日期 | 2004.11.05 |
| 申请人 | 佛特比奥公司 | 发明人 | 谭宏;谭语山;陈段君;克丽斯塔·利娅·威特 |
| 分类号 | G01B9/02(2006.01) | 主分类号 | G01B9/02(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王允方;刘国伟 |
| 主权项 | 1、一种组件，其包括：用于通过光纤耦合至光源的光学元件，所述光学元件包括透明材料、第一反射表面和第二反射表面，所述第一与第二反射表面相隔至少50nm，其中所述第一反射表面包括分析物结合分子层。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||