| 发明名称 |
CLEANING SOLUTION FOR PHOTORESIST AND METHOD FOR PATTERN FORMATION USING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20050071896(A) |
申请公布日期 |
2005.07.08 |
| 申请号 |
KR20040000289 |
申请日期 |
2004.01.05 |
| 申请人 |
HYNIX SEMICONDUCTOR INC. |
发明人 |
LEE, GEUN SU;BOK, CHEOL KYU |
| 分类号 |
C11D1/00;C11D1/58;C11D11/00;G03F7/32;(IPC1-7):G03F7/32 |
主分类号 |
C11D1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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