| 主权项 |
1.一种棚架之升降结构改良,该棚架大体系由立向支柱、横支架以及棚布所构组成,其中该立向支柱系由主管以及副管所构成,该副管系枢插于主管内呈可伸缩,副管底端设有扩径之限位件可被主管顶端所预设之挡环所挡止,藉以使副管伸长之最大高度获得限位,又该副管并可藉由定位件使其调定后之高度获得定位;其特征在于:该主管之底部设有一进气口,该进气口系与输气管连结,用以接驳来自于气压驱动源之气压,又限位件并组设有气密环与主管之内壁密合,以使该限位件之底端与主管内底面之间形成一气密空间;藉此,当气压驱动源启动时,其由进气口导入气密空间之气压得迫使副管上升,使棚架之立向支柱达到一种气压式驱动伸长之便益使用性者。2.依据申请专利范围第1项所述之棚架结构改良,其中,该定位件系可由一插销及一定位环所构成,其中该定位环系为可枢套于副管上之环体,其设有横向之贯穿孔可供插销枢穿,以使该副管上设置有上、下间隔排列之定位孔;以当副管上昇至预定高度时,可藉由该插销依序穿组过定位环之贯穿孔以及副管与之相对位之定位孔、并配合该定位环之顶端抵止于主管之挡环顶端而促使该副管定位者。图式简单说明:第1图:系本创作立向支柱之组合立体图。第2图:系本创作立向支柱之分解立体图。第3图:系本创作立向支柱呈缩短状态之剖视图。第4图:系本创作立向支柱呈伸长状态之剖视图。第5图:系接续第4图,该插销插组定位之状态示意。第6图:系本创作之实施状态立体图一,系为立向支柱缩短状态。第7图:系本创作之实施状态立体图二,系为立向支柱伸长状态。 |
