| 发明名称 |
Procédé pour créer une couche-barrière dans un semi-conducteur et dispositif semiconducteur ainsi obtenu |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR1271769(A) |
申请公布日期 |
1961.09.15 |
| 申请号 |
FR19600837990 |
申请日期 |
1960.09.07 |
| 申请人 |
RADIO CORPORATION OF AMERICA |
发明人 |
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| 分类号 |
H01L21/00;H01L21/18;H01L21/223;H01L21/24;H01L21/288;H01L29/06 |
主分类号 |
H01L21/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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