LIGHT-SENSITIVE RESIST WHICH CAN BE DEVELOPED IN AN AQUEOUS-ALKALI MANNER AND OPERATES NEGATIVELY

摘要

Die Erfindung besteht aus einem lichtempfindlichen, wässrig-alkalisch entwickelbaren, negativ arbeitenden Resist, der zur Herstellung von Negativstrukturen für den mu m- und nm-Bereich eingesetzt wird. Der Resist enthält als lichtempfindliche Komponente ein Diazidostilben-disulfonsäureester der allgemeinen Formel (I), worin R<1> eine Gruppe der Formel (II) darstellt, worin R<2>, n, X die in der Anmeldung angegebenen Bedeutungen haben, welcher im spektralen Bereich von 200 bis 400 nm eine hohe Empfindlichkeit aufweist und eine hervorragende Löslichkeit im verwendeten Lösungsmittel zeigt. Die Diazidostilben-disulfonsäureester der Formel (I) sind kostengünstig und in einer einfachen Zweistufensynthese darstellbar.