| 摘要 |
【課題】新規なリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物を提供する。【解決手段】下記式（１）で表される構造をポリマー鎖の末端に有するポリマー、架橋剤、架橋反応を促進させる化合物及び有機溶媒を含むリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。【化１】（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数１乃至１３の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、ハロゲノ基又はヒドロキシ基を表し、前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の少なくとも１つは前記アルキル基を表し、Ａｒはベンゼン環、ナフタレン環又はアントラセン環を表し、２つのカルボニル基はそれぞれ前記Ａｒで表される環の隣接する２つの炭素原子と結合するものであり、Ｘは炭素原子数１乃至３のアルコキシ基を置換基として有してもよい炭素原子数１乃至６の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を表す。）【選択図】なし |
