发明名称 |
一种阵列基板及其制作方法、显示装置 |
摘要 |
本发明实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,能够解决在Cell工艺中,产生的白Mura不良的问题。上述制作方法包括形成显示区域和非显示区域的方法。还包括:通过构图工艺,在显示区域形成取向膜的图案,并至少在非显示区域中除电路绑定区域以外的部分,形成透明保护层的图案。然后,通过摩擦压印工艺,在取向膜的表面形成多条具有一致排列方向的纹路图案,用于对液晶层中的液晶分子进行有序排列;其中,上述透明保护层的表面高度小于等于取向膜的表面高度。 |
申请公布号 |
CN104280958B |
申请公布日期 |
2017.03.08 |
申请号 |
CN201410505653.5 |
申请日期 |
2014.09.26 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
董廷泽;王羽佳;莫骏;管培强;张志男 |
分类号 |
G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1337(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1362(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种阵列基板的制作方法,包括形成显示区域和非显示区域的方法,其特征在于,还包括:通过构图工艺,在所述显示区域形成取向膜的图案;通过构图工艺,至少在所述非显示区域中除电路绑定区域以外的部分,形成透明保护层的图案;通过摩擦压印工艺,在所述取向膜的表面形成多条具有一致排列方向的纹路图案,用于对液晶分子进行有序排列;其中,所述透明保护层的表面高度小于等于所述取向膜的表面高度;所述透明保护层与所述取向膜异层设置。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |