发明名称 一种阵列基板及其制作方法、显示装置
摘要 本发明实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,能够解决在Cell工艺中,产生的白Mura不良的问题。上述制作方法包括形成显示区域和非显示区域的方法。还包括:通过构图工艺,在显示区域形成取向膜的图案,并至少在非显示区域中除电路绑定区域以外的部分,形成透明保护层的图案。然后,通过摩擦压印工艺,在取向膜的表面形成多条具有一致排列方向的纹路图案,用于对液晶层中的液晶分子进行有序排列;其中,上述透明保护层的表面高度小于等于取向膜的表面高度。
申请公布号 CN104280958B 申请公布日期 2017.03.08
申请号 CN201410505653.5 申请日期 2014.09.26
申请人 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 发明人 董廷泽;王羽佳;莫骏;管培强;张志男
分类号 G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1337(2006.01)I 主分类号 G02F1/1362(2006.01)I
代理机构 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人 申健
主权项 一种阵列基板的制作方法,包括形成显示区域和非显示区域的方法,其特征在于,还包括:通过构图工艺,在所述显示区域形成取向膜的图案;通过构图工艺,至少在所述非显示区域中除电路绑定区域以外的部分,形成透明保护层的图案;通过摩擦压印工艺,在所述取向膜的表面形成多条具有一致排列方向的纹路图案,用于对液晶分子进行有序排列;其中,所述透明保护层的表面高度小于等于所述取向膜的表面高度;所述透明保护层与所述取向膜异层设置。
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