发明名称 |
基于MEMS的传感器的制作方法 |
摘要 |
一种基于MEMS的传感器的制作方法,通过在正面形成浅槽时就同时形成支撑质量块的支撑梁,由于刻蚀浅槽相较于刻蚀深槽更容易控制、工艺精准度更高,使得形成的支撑梁相较于传统的在背面形成深槽时形成的支撑梁一致性和均匀性更好,同时也节约了工艺时间和刻蚀原料。 |
申请公布号 |
CN105174203A |
申请公布日期 |
2015.12.23 |
申请号 |
CN201410231976.X |
申请日期 |
2014.05.28 |
申请人 |
无锡华润上华半导体有限公司 |
发明人 |
胡永刚;周国平 |
分类号 |
B81C1/00(2006.01)I |
主分类号 |
B81C1/00(2006.01)I |
代理机构 |
广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 |
代理人 |
李永华 |
主权项 |
一种基于MEMS的传感器的制作方法,其特征在于,包括步骤:提供衬底;在所述衬底的正面形成浅槽和支撑梁;在所述衬底的正面形成第一外延层以将所述浅槽封盖;在所述第一外延层下形成悬空的网格状结构;在所述第一外延层上形成第二外延层;在所述第二外延层上形成电路层;在所述衬底的背面对应所述浅槽的位置形成深槽,使所述浅槽和所述深槽连通;将所述支撑梁除去。 |
地址 |
214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 |