发明名称 曝光方法、曝光装置、及彩色滤光片之制造方法
摘要
申请公布号 TWI510866 申请公布日期 2015.12.01
申请号 TW099145693 申请日期 2010.12.24
申请人 凸版印刷股份有限公司 发明人 松井浩平;八田薰
分类号 G03F7/20;G02B5/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;丁国隆 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 一种曝光方法,系一面将形成有格子状之遮光层的基板朝第1方向搬运,一面于前述基板上形成构成彩色滤光片之着色像素的曝光方法,以与反覆点灯及熄灯之点灭式光源对向的方式,配置具有复数个开口的光罩与涂布有阻剂的基板;一面连续地将前述基板朝前述第1方向搬运,一面使前述点灭式光源点灭,间歇地进行复数次曝光;于各次曝光时,使前述光罩朝向与前述第1方向正交的第2方向移动,以进行前述光罩与前述基板的对位;于各次曝光时,以使前述光罩之前述复数个开口的一部分,与前一次曝光时透过前述光罩之开口所曝光之曝光图案的一部分重叠的方式,控制前述点灭式光源的点灭间隔;前述光罩之一个开口之前述第1方向的宽度与前述遮光层所包围之一个开口区域之前述第1方向的宽度的差,比前述光罩之一个开口之前述第2方向的宽度与前述遮光层所包围之一个开口区域之前述第2方向的宽度的差还大。
地址 日本