发明名称 一种制备交叉型氧化锌纳米线阵列的方法
摘要 本发明公开了一种制备交叉型氧化锌纳米线阵列的方法,包括以下步骤:(1)采用分子束外延的方法在衬底上制备ZnO薄膜作为生长ZnO纳米结构的籽晶层;(2)在所述薄膜上用水热的方法生长交叉型ZnO纳米线阵列。本发明利用水热方法制备的交叉状ZnO纳米线阵列,具有以下优点:1、此方法制备交叉状ZnO纳米线阵列利用分子束外延技术蒸镀一层很薄的ZnO薄膜,来作为生长制备纳米结构的籽晶层,没有利用金属做催化剂,避免引入杂质。2、此方法制备出的交叉状ZnO纳米线阵列,形貌均一,可大面积的生长。3、通过水热方法可以较为容易的制备交叉状ZnO纳米线阵列,并且具有很好的重复性。
申请公布号 CN104229862B 申请公布日期 2015.10.21
申请号 CN201410435338.X 申请日期 2014.08.31
申请人 济南大学 发明人 丁梦;徐锡金;邓晓龙;邵明辉;黄金昭
分类号 C01G9/02(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 主分类号 C01G9/02(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种制备交叉型氧化锌纳米线阵列的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)采用分子束外延的方法在衬底上制备ZnO薄膜作为生长ZnO纳米结构的籽晶层;(2)在所述薄膜上用水热的方法生长交叉型ZnO纳米线阵列,其中,所述步骤(1)的工作参数为:选用金属Zn和氧气作为生长源,具体生长参数:生长温度为800℃,生长室真空度为3×10<sup>‑3</sup>Pa,氧气射频功率稳定在300W,氧气流量为1SCCM;其中,所述步骤(2)的过程为:以六次甲基四胺和乙酸锌为反应源,以去离子水为溶剂,制得反应溶液,以步骤(1)制备的带有ZnO薄膜的衬底为反应基底,将20ml的反应溶液和反应基底放入高压反应釜,密封好后放入烘箱,生长温度为90℃,反应时间为12-18小时。
地址 250022 山东省济南市南辛庄西路336号济南大学物理科学与技术学院