发明名称 化学增幅负型光阻组成物及图型形成方法
摘要
申请公布号 TWI494694 申请公布日期 2015.08.01
申请号 TW102104561 申请日期 2013.02.06
申请人 信越化学工业股份有限公司;国际商业机械公司 发明人 増永恵一;渡邉聡;河合义夫;波萨诺 路易沙;苏利亚库马兰 雷南
分类号 G03F7/038;C08L33/14;C08L65/00;H01L21/027 主分类号 G03F7/038
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种化学增幅负型光阻组成物,其包含具有脱离基之光阻聚合物及酸产生剂,在暴露于高能辐射下时,于藉酸产生剂生成之酸的催化下,由于脱离基经过消去反应之故,该光阻聚合物变成不可溶于硷性显影剂中,该光阻聚合物由下列组成:具有式(1)之重复单元、选自式(2)及(3)中至少一类型之重复单元及具有式(4)之重复单元,其中除具有式(1)之重复单元以外的重复单元中至少有一种具有至少一个酚系羟基及/或氟醇基,且除具有式(1)之重复单元以外的重复单元总数以聚合物整体重复单元计系占25至95莫耳%, 其中A、B及C各系单键或在链中间可含有醚氧原子的C1-C10伸烷基,D系单键或为二价、直链、支链或环状、脂族C1-C10烃基,此基团可经氟取代且可含有位于链中间之醚氧原子、羰基或羰氧基,R1系氢、氟、甲基或三氟甲基,R2、R3、R4、及R5各独立的为氢、卤素、任意经卤基取代之直链、支链或环状C2-C8醯氧基、任意经卤基取代之直链、支链或环状C1-C6烷基或任意经卤基取代之直链、支链或环状C1-C6烷氧基,L系氢、可于链中间含醚氧原子、羰基或羰基氧基之单价、直链、支链或环状、脂族C1-C10烃基或任意经取代之单价芳族基,Rx及Ry各系氢或可经羟基或烷氧基取代之C1-C15烷 基,Rx及Ry可键结在一起连同其所附接之碳原子形成环,排除Rx及Ry同时为氢之情况,Rf1及Rf2各系具有至少一个氟原子之C1-C6烷基,Rf2可与D键结连同其所附接之碳原子一起形成环,f系1至3之整数,g系1至3之整数,h系1或2,i系0至3之整数,r系0或1,v系1或2,s、t及u各系0至2之整数,a系(5+2s-f)之整数,b系(5+2t-g)之整数,c系(5+2u-h)之整数,d系0至5之整数,m、n及p各独立的为0或1,其限制条件为当r系0时,p为1。
地址 美国