| 摘要 |
1. Полимерное изделие, имеющее тонкое покрытие, по меньшей мере, на одной из его сторон, отличающееся тем, что указанное покрытие содержит первое покрытие SiOxCуHz, которое представляет собой полимеризованный в плазме тетраметилсилан или полимеризованный в плазме тетраметилсилан и газ-окислитель, предпочтительно кислород или диоксид углерода, нанесенное на поверхности полимерного изделия, где величина х равна 0-1,7, величина у равна 0,5-0,8, величина z равна 0,35-0,6 для указанного первого покрытия SiOxCуHz, и второе покрытие SiOxCуHz, которое представляет собой полимеризованный в плазме тетраметилсилан и газ-окислитель, предпочтительно кислород или диоксид углерода, нанесенное на поверхности указанного первого слоя, где величина х равна 1,7-1,99, величина у равна 0,2-0,7, величина z равна 0,2-0,35 для указанного второго покрытия SiOxCуHz, и тем, что толщина указанного первого покрытия равна от приблизительно 1 до приблизительно 15 нм, и тем, что толщина указанного второго покрытия равна от приблизительно 10 до приблизительно 100 нм, предпочтительно, приблизительно 30 нм. ! 2. Способ изготовления полимерного изделия, имеющего тонкое покрытие, образованное под действием плазмы, по меньшей мере, на одной из его сторон, отличающийся тем, что содержит следующие стадии: ! обработку плазмой на полимерном изделии, предпочтительно обработку плазмой аргона; ! нанесение первого покрытия SiOxCуHz генерированием плазмы из тетраметилсилана или тетраметилсилана и газа-окислителя, предпочтительно кислорода или диоксида углерода, причем величина х равна 0-1,7, величина у равна 0,5-0,8, величина z равна 0,35-0,6 для указанного первого покрытия SiOxCуHz, и ! последующее нанесение вт |
