| 摘要 |
揭示一种电浆处理系统，包括一电浆室，用于处理一基板。一设备，包括一夹盘，其被组构以支撑该基板的第一表面。该设备亦包含，一耐电浆阻障体，其依与该基板的第二表面相关的一间隔分开关系而设置，该第二表面相对该第一表面，该耐电浆阻障体实质上屏蔽该基板的一中心部分，且留下该基板之该第二表面的一环状周围区，该环状周围区实质上并未由该耐电浆阻障体所屏蔽。该设备更包含至少一供电电极，该供电电极与该耐电浆阻障体共同作用以产生来自一电浆气体的约束电浆，该约束电浆实质上约束该基板的该环状周围部分及离开该基板的该中心部分。 |
