发明名称 |
抛光和/或清洁铜互连和/或薄膜的方法及所用的组合物 |
摘要 |
本发明提供使用二(全氟烷磺酰基)亚氨酸或三(全氟烷磺酰基)甲基化物酸组合物来抛光和/或清洁铜互连的方法。 |
申请公布号 |
CN1726265A |
申请公布日期 |
2006.01.25 |
申请号 |
CN200380105924.8 |
申请日期 |
2003.10.28 |
申请人 |
3M创新有限公司 |
发明人 |
S·克萨里;W·M·拉曼纳;M·J·帕伦特;L·A·扎哲拉 |
分类号 |
C09G1/02(2006.01);C23F3/00(2006.01);C11D1/00(2006.01);H01L21/321(2006.01);H01L21/288(2006.01) |
主分类号 |
C09G1/02(2006.01) |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
沙永生 |
主权项 |
1.一种抛光铜互连和/或薄膜的方法,所述方法包括如下步骤:a)提供一种组合物,所述组合物包含:i)至少1重量%的至少一种二(全氟烷磺酰基)亚氨酸,由以下通式所示:<img file="A2003801059240002C1.GIF" wi="340" he="261" />式中,R<sub>f</sub>各自是包含1-12个碳原子的全氟化烷基,它可以是环状或非环状的,可以任选包含链接的或末端杂原子,所述杂原子选自N、O和S;任意两个R<sub>f</sub>可以连接在一起,形成包含全氟亚烷基的环;ii)溶剂;b)提供包括至少一个表面的基材,所述表面具有至少一个铜互连和/或薄膜;c)使所述基材的表面和所述组合物相互接触,形成界面;d)施加作用力,促进所述界面上的铜溶解。 |
地址 |
美国明尼苏达州 |