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发明名称
ÄTZMETHODE UND PLASMABEHANDLUNGSMETHODE
摘要
申请公布号
DE60016423(T2)
申请公布日期
2005.11.24
申请号
DE20006016423T
申请日期
2000.08.23
申请人
TOKYO ELECTRON LTD., TOKIO/TOKYO
发明人
HAGIHARA, MASAAKI;INAZAWA, KOICHIRO;NAITO, WAKAKO
分类号
H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/3213;H01L21/768;H05H1/46;(IPC1-7):H01L21/306
主分类号
H01L21/302
代理机构
代理人
主权项
地址
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