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发明名称 Method Of Forming Fine Pattern Of Semiconductor Device
摘要
申请公布号 KR100476924(B1) 申请公布日期 2005.03.17
申请号 KR20020033128 申请日期 2002.06.14
申请人 发明人
分类号 H01L21/027;H01L21/033;H01L21/28;H01L21/3213;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
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