发明名称 用以测试半导体雷射模组之装置与方法
摘要 在半导体雷射模组测试装置中,一温度控制电源改变波长锁定模组的温度,一波长监视偏压电路探测在改变的温度范围内波长监视器的输出,并计算半导体雷射的温度和由半导体雷射输出的光的波长之间的关系。而且,藉由控制波长锁定模组的温度,同时根据所得到的温度和波长之间的关系,以波长回授电路回授到波长监视器的输出,输出光的波长被锁定。
申请公布号 TWI222520 申请公布日期 2004.10.21
申请号 TW091110244 申请日期 2002.05.16
申请人 富士通昆腾装置股份有限公司 发明人 小野晴义;马场功
分类号 G01R15/00;H01S3/13;H01S3/04 主分类号 G01R15/00
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种用以测试半导体雷射模组之装置,该半导体 雷射模组包括有一半导体雷射,一用以探测来自该 半导体雷射的光输出的波长的波长监视器,和一用 以控制该半导体雷射的温度的温度控制装置,该半 导体雷射模组测试装置包含: 一波长回授电路,将该半导体雷射模组的该波长监 视器所探测到的波长与一目标波长做比较,并输出 对应于比较结果的比较信号; 一处理器,输出对应于该比较信号的控制信号,该 比较信号系由该波长回授电路所供应; 一温度控制电源,根据来自该处理器的该控制信号 ,控制将被供应到该温度控制装置的电源。 2.如申请专利范围第1项之用以测试半导体雷射模 组之装置,其中当控制将被供应到该温度控制装置 的该温度控制电源的电力,改变该半导体雷射的温 度时,根据温度改变量,以及根据被该波长监视器 探测到的波长的改变量,该处理器得到该半导体电 射的温度和光输出的波长之间的关系。 3.如申请专利范围第2项之用以测试半导体雷射模 组之装置,其中该处理器控制将被供应到该温度控 制装置的温度控制电源的电力,因而根据得自波长 回授电路的比较信号,以及半导体雷射的温度和从 该半导体电射得到的光输出的波长之间的关系,使 得该半导体雷射输出的光输出的波长与目标波长 重合。 4.一种用以测试半导体雷射模组之装置,该半导体 雷射模组包括有一半导体雷射,一用以探测来自该 半导体雷射的光输出的波长的波长监视器,一用以 控制该半导体雷射的温度的温度控制装置,及一用 以探测该半导体雷射的温度的温度监视器,该半导 体雷射模组测试装置包含: 一波长回授电路,将该半导体雷射模组的该波长监 视器所探测到的波长与一目标波长做比较,并输出 对应于比较结果的比较信号; 一温度回授电路,将该温度监视器探测到的温度与 一设定温度相比较,并输出对应于该比较结果的一 比较信号; 一处理器,输出对应于该比较信号的控制信号,该 比较信号系由该波长回授电路或该温度回授电路 所供应;及 一温度控制电源,根据来自该处理器的该控制信号 ,控制将被供应到该温度控制装置的电源。 5.如申请专利范围第4项之用以测试半导体雷射模 组之装置,其中当控制将被供应到该温度控制装置 的该温度控制电源的电力,改变该半导体雷射的温 度时,根据温度改变量,以及根据被该波长监视器 探测到的波长的改变量,该处理器得到该半导体电 射的温度和光输出的波长之间的关系。 6.如申请专利范围第5项之用以测试半导体雷射模 组之装置,其中该处理器控制将被供应到该温度控 制装置的温度控制电源的电力,因而根据得自波长 回授电路的比较信号,以及半导体雷射的温度和从 该半导体电射得到的光输出的波长之间的关系,使 得该半导体雷射输出的光输出的波长与目标波长 重合。 7.如申请专利范围第4项之用以测试半导体雷射模 组之装置,其中该处理器控制将被供应到该温度控 制装置的温度控制电源的电力,因而根据得自该温 度回授电路的比较信号,使得该半导体雷射的温度 与一设定温度相同。 8.一种用以测试半导体雷射模组之方法,该半导体 雷射模组包括有一半导体雷射,一用以探测来自该 半导体雷射的光输出的波长的波长监视器,及一用 以控制该半导体雷射的温度的温度控制装置,该用 以测试半导体雷射模组之方法包含: 得到该半导体雷射的温度和得自该半导体雷射的 光输出的波长之间的相互关系的步骤,当控制将被 供应到该温度控制装置的该温度控制电源的电力, 改变该半导体雷射的温度时,根据温度改变量,以 及根据被该波长监视器探测到的波长的改变量,可 得到该相互关系; 执行该测试,而同时藉由控制将供应到该温度控制 装置的电力而同时将波长监视器探测到的波长回 授的步骤,因而根据该半导体雷射的温度和由该半 导体雷射输出的光波长之间的相互关系,该半导体 雷射的光输出的波长,与一目标波长相同。 9.一种用以测试半导体雷射模组之方法,该半导体 雷射模组包括有一半导体雷射,一用以探测来自该 半导体雷射的光输出的波长的波长监视器,一用以 控制该半导体雷射的温度的温度控制装置,及一用 以探测该半导体雷射的温度的温度监视器,用以测 试该半导体雷射模组之方法包含: 得到该半导体雷射的温度和得自该半导体雷射的 光输出的波长之间的相互关系的步骤,当控制将被 供应到该温度控制装置的该温度控制电源的电力, 改变该半导体雷射的温度时,根据温度改变量,以 及根据被该波长监视器探测到的波长的改变量,可 得到该相互关系; 执行该测试,而同时藉由控制将供应到该温度控制 装置的电力而同时将波长监视器探测到的波长回 授的步骤,因而根据该半导体雷射的温度和由该半 导体雷射输出的光波长之间的相互关系,该半导体 雷射的光输出的波长,与一目标波长相同。 10.如申请专利范围第9项之方法,包含: 执行一测试而同时保持该半导体雷射的温度在一 设定温度的步骤,其系藉由控制将被供应到该温度 控制装置的电力,而同时回授被该温度监视器探测 到的温度而达成,因而该半导体雷射的温度与该设 定温度相同。 图式简单说明: 第1图系显示传统半导体雷射模组测试装置之构造 的方块图, 第2图系本发明之半导体雷射模组测试装置之构造 的方块图, 第3图系显示用于本发明半导体雷射模组测试装置 之可监视波长的温度控制器的一主要部份的结构 的方块图, 第4图系显示使用本发明之半导体雷射模组测试装 置之波长锁定侧试的处理程序的流程图。
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