基板检查装置、涂布显像装置及基板检查方法

摘要

形成基板之底膜(20)时，事前先于诸如晶圆(W)的切割线(51)上作成方形第1检查图案(2)，进一步作成第2检查图案(3)，使之在作成光阻图案时由上俯视之状态下相对于第1检查图案(2)呈一直线。将光照射在含有第1及第2检查图案之领域，并根据反射后的绕射光作成光谱，其中即含有第2检查图案的线宽及两检查图案间之节距的资讯。在此事先以模拟程式作成以各种检查图案为基础之光谱群，透过与实际的光谱进行比较，选择最近似的光谱，推定前述线宽及节距，以进行光阻图案之评价。

主权项

1.一种基板检查装置,系一用以检查业已于表面涂布光阻后进行曝光、显像处理之基板者,其中包含有:基板载置部,系用以载置前述基板者;光照射机构,系用以由基板表面侧向含有各于基板之底膜及光阻上形成之第1检查图案及第2检查图案之领域照射预定波长之光者;光检测部,系用以检测由该光照射机构照射,而在前述基板之表面部反射之光者;检查图案用光谱作成机构,系用以根据该光检测部之检测输出,作成依第1检查图案及第2检查图案之绕射光的检查图案用光谱者;比较用光谱群作成机构,系用以改变各种第1检查图案及第2检查图案之各线宽与第1检查图案及第2检查图案在横向之相互间位置关系后,其作成各对应其等组合之比较用光谱群者;及比较选择机构,系用以比较前述比较用光谱群及检查图案用光谱后,再由比较用光谱群中选出与检查图案用光谱最为近似之光谱者;而由业经选择之比较用光谱,以推定基板上所形成之光阻图案之第2检查图案之线宽,以及该基板上前述横向之位置关系。2.如申请专利范围第1项之基板检查装置,其更具有一判断机构,其系用以根据与业经选择之比较用光谱相对应之第2检查图案之线宽与前述位置关系,以及第2检查图案可容许之线宽及可容许之前述位置关系,以判断光阻图案之线宽,与光阻图案及底膜在横向之相互间位置关系是否适当者。3.如申请专利范围第1项之基板检查装置,其中该第1检查图案及该第2检查图案,系各作成四方形,由基板上方观看时,是交叉直线配列者。4.如申请专利范围第1项之基板检查装置,其系准备一组将第1检查图案及第2检查图案沿X方向直线配列组,及,一组将第1检查图案及第2检查图案沿Y方向直线配列组,就各组作成检查用图案用光谱,并选择与各组每一检查图案用光谱最为近似之比较用光谱,根据其等比较用光谱,判断光阻图案与底膜在X方向上相互间之位置关系及Y方向上相互间之位置关系是否适当者。5.如申请专利范围第1项之基板检查装置,其中该第1检查图案及该第2检查图案之配列,系同一间隔。6.如申请专利范围第1项之基板检查装置,其中该第1检查图案及该第2检查图案,系形成在基板有效领域外。7.如申请专利范围第1项之基板检查装置,其中该第1检查图案及该第2检查图案,系形成于用以切割成各晶片之切割线上。8.如申请专利范围第1项之基板检查装置,其中该比较用光谱群作成机构系具有一模拟机构,藉此,根据前述线宽及位置关系之组别,经由模拟程式,以作成比较用光谱者。9.如申请专利范围第1项之基板检查装置,其中该第1检查图案及该第2检查图案,系各作成四方形,由基板上方观看时,是直线配列于同一位置者。10.一种涂布显像装置,系包含有:载置部,系用以载置收容有多数基板之基板匣具者;涂布单元,系用以对基板涂布光阻者;显像单元,系用以对曝光后之基板进行显像者;热系单元,系用以对基板涂布光阻之前或之后,或对基板进行显像之前或之后进行加热及冷却者;及搬送机构,系用以于前述载置部、涂布单元、显像单元及热系单元之间搬送基板者;该装置中设有申请专利范围第1至9项中任一项之基板检查装置。11.一种基板检查方法,系一检查业已于表面涂布光阻后进行曝光、显像处理之基板者,其进行以下步骤,即:将基板搬进用以载置前述基板之基板载置部;由基板表面侧向含有各于该基板之底膜及光阻上形成之第1检查图案及第2检查图案之领域照射预定波长之光,且以光检测部检测其反射后之光;根据前述光检测部之检测输出,作成依第1检查图案及第2检查图案之绕射光的检查图案用光谱;事先改变各种第1检查图案及第2检查图案之各线宽与第1检查图案及第2检查图案在横向之相互间位置关系后,再作成各对应其等组合之比较用光谱群,进一步比较前述比较用光谱群及检查图案用光谱后,再由比较用光谱群中选出与检查图案用光谱最为近似之光谱;及,由业经选择之比较用光谱,以推定基板上所形成之光阻图案之第2检查图案之线宽,以及该基板上前述横向之位置关系。12.如申请专利范围第11项之基板检查方法,其更具有一步骤,即:藉此根据与业经选择之比较用光谱相对应之第2检查图案之线宽与前述位置关系,以及第2检查图案可容许之线宽及可容许之前述位置关系,以判断光阻图案之线宽,与光阻图案及底膜在横向之相互间位置关系是否适当者。图式简单说明:第1图系一用以说明显示本发明之检查装置之检查手法之说明图。第2(a)~2(e)图系一用以说明显示本发明之检查装置之检查手法之说明图。第3图系一用以说明显示本发明之检查装置之检查手法之说明图。第4(a)、4(b)图系一用以说明显示本发明之检查装置之检查手法之说明图。第5(a)、5(b)图系一用以说明显示本发明之检查装置之检查手法之说明图。第6图系一用以说明显示本发明之检查装置之检查手法之说明图。第7图系一用以说明显示本发明之检查装置之检查手法之说明图。第8图系一显示本发明检查装置的实施型态之概略图。第9图系一用以说明显示本发明检查装置之实施型态之光学系之概略图。第10图系一用以说明本发明检查装置之实施形态之控制部之说明图。第11图系一显示本发明检查装置之检查的步骤之步骤图。第12(a)、12(b)图系一用以说明显示本发明检查装置之另一实施型态之说明图。第13图系一用以说明显示本发明检查装置之另一实施形态之说明图。第14(a)、14(b)图系一用以说明显示本发明检查装置之另一实施形态之说明图。第15图系一显示组装有前述检查装置之涂布显像装置例之俯视图。第16图系显示组装有前述检查装置之涂布显像装置例之立体图。第17(a)、17(b)图系一用以说明习知检查装置之检查手法之说明图。