| 发明名称 |
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH05303199(A) |
申请公布日期 |
1993.11.16 |
| 申请号 |
JP19920107888 |
申请日期 |
1992.04.27 |
| 申请人 |
FUJI PHOTO FILM CO LTD |
发明人 |
KAWABE YASUMASA;AOSO TOSHIAKI;KOKUBO TADAYOSHI |
| 分类号 |
G03F7/022;G03F7/004;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):G03F7/022 |
主分类号 |
G03F7/022 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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