| 摘要 |
Procédé concernant la déposition en phase gazeuse par procédé physique d'un revêtement réfractaire comme du nitrure de titane sur un substrat non-conducteur comme un substrat en céramique, et le substrat recouvert ainsi obtenu. Pour appliquer le revêtement sur le substrat non-conducteur, on nettoie tout d'abord les surfaces dudit substrat, puis on procède à la déposition en phase gazeuse par procédé physique d'une première couche d'un métal réfractaire, comme du métal au titane, sur le substrat non-conducteur. On dépose ensuite sur la première couche une seconde couche d'un composé réfractaire, comme du nitrure de titane, en suivant la méthode de déposition en phase gazeuse par procédé physique, afin de produire un substrat non-conducteur ayant une meilleure adhérence du revêtement. |
