发明名称 光阻组成物用树脂、光阻组成物、及光阻图型之形成方法
摘要 本发明系提供解像性、线蚀刻粗糙特性良好的光阻组成物用树脂、及使用该树脂之光阻组成物及光阻图型之形成方法。上述树脂为于聚合物终端具有结合至碳原子的羟基,且该羟基之α位碳原子为具有至少一个电子吸引性基。093115553-p01.bmp
申请公布号 TW200513797 申请公布日期 2005.04.16
申请号 TW093115553 申请日期 2004.05.31
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 羽田英夫;竹下优;松丸省吾;清水宏明
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本