| 摘要 |
본 발명은 두께 균일도를 향상시킬 수 있는 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 상기 기판 처리 장치는 샤워헤드를 구비하는 프로세스 챔버; 상기 샤워헤드로 소스가스 및 반응가스를 제공하기 위한 도관이 형성된 피딩 블록; 및 소스가스 및 반응가스를 믹싱하기 위하여, 상기 샤워헤드와 상기 피딩 블록 사이에 연통되는 유로를 형성하도록 배치된 믹싱 블록;을 구비하고, 상기 믹싱 블록은 상기 피딩 블록에 형성된 상기 도관의 단면적보다 더 큰 단면적을 갖는 내부 공간을 포함하고, 소스가스 및 반응가스의 혼합가스의 이송 경로 중에 상기 혼합가스와 충돌될 수 있는 충돌부를 포함한다. |
