| 发明名称 | 二氧化硅颗粒的制备方法 | ||
| 摘要 | 一种制备二氧化硅颗粒的方法，包括：制备二氧化硅颗粒分散液，该二氧化硅颗粒分散液包含二氧化硅颗粒以及含有醇和水的溶剂；以及使超临界二氧化碳与所述二氧化硅颗粒分散液接触以除去溶剂。与不采用超临界二氧化碳除去二氧化硅颗粒分散液中的溶剂的情况相比，本发明的制备二氧化硅颗粒的方法可获得粗粉产生量少的二氧化硅颗粒。 | ||
| 申请公布号 | CN102557049B | 申请公布日期 | 2015.10.28 |
| 申请号 | CN201110409469.7 | 申请日期 | 2011.12.09 |
| 申请人 | 富士施乐株式会社 | 发明人 | 竹内荣;川岛信一郎;奥野广良;吉川英昭;增田悠二;野崎骏介;钱谷优香 |
| 分类号 | C01B33/12(2006.01)I | 主分类号 | C01B33/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 丁业平;张天舒 |
| 主权项 | 一种制备二氧化硅颗粒的方法，包括：制备二氧化硅颗粒分散液，该二氧化硅颗粒分散液包含二氧化硅颗粒、以及含有醇和水的溶剂，以及使超临界二氧化碳与所述二氧化硅颗粒分散液接触以除去所述溶剂，其中在制备所述二氧化硅颗粒分散液时，所述二氧化硅颗粒分散液中水与醇的质量比为0.03至0.3，并且其中通过除去溶剂而获得的二氧化硅颗粒中尺寸大于或等于1μm的粗粒的比例为20体积％或更小，其中在制备所述二氧化硅颗粒分散液时，所述二氧化硅颗粒分散液中水与所述二氧化硅颗粒的质量比为0.02至3，其中使超临界二氧化碳与所述二氧化硅颗粒分散液接触以除去所述溶剂，其中由式(1)表示的y满足式(2)的范围：·式(1)：y＝((二氧化硅颗粒分散液中水的质量/二氧化硅颗粒分散液中醇的质量)/温度(℃))·式(2)：0.0001≤y≤0.0016，并且其中在除去所述溶剂时，所述超临界二氧化碳的温度为31℃至350℃。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||