发明名称 |
二氧化钛或氮化钛支撑的碳量子点修饰聚吡咯纳米阵列材料及其制备方法和应用 |
摘要 |
本发明提供了一种二氧化钛或氮化钛支撑的碳量子点修饰聚吡咯纳米阵列材料,包括管壁独立结构的二氧化钛或氮化钛纳米管阵列,以及二氧化钛或氮化钛纳米管内壁面和外壁面上均匀沉积的碳量子点修饰的聚吡咯导电膜;由二氧化钛或氮化钛纳米管内壁面上均匀沉积的碳量子点修饰的聚吡咯导电膜(1)、二氧化钛或氮化钛纳米管阵列(2)以及二氧化钛或氮化钛纳米管外壁面上均匀沉积的碳量子点修饰的聚吡咯导电膜(3)形成同心轴中空结构的纳米管复合材料。本发明还提供了该材料的制备方法及应用。该材料由聚吡咯高分子链中修饰碳量子点提高聚吡咯电导率,同时形成同心轴中空纳米阵列结构,从而大大提高电极材料的电化学电容性能。 |
申请公布号 |
CN104934232A |
申请公布日期 |
2015.09.23 |
申请号 |
CN201510243215.0 |
申请日期 |
2015.05.13 |
申请人 |
东南大学 |
发明人 |
谢一兵;杜洪秀 |
分类号 |
H01G11/28(2013.01)I;H01G11/48(2013.01)I;H01G11/86(2013.01)I |
主分类号 |
H01G11/28(2013.01)I |
代理机构 |
南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 |
代理人 |
沈振涛 |
主权项 |
二氧化钛或氮化钛支撑的碳量子点修饰聚吡咯纳米阵列材料,其特征在于:包括管壁独立结构的二氧化钛或氮化钛纳米管阵列,以及二氧化钛或氮化钛纳米管内壁面和外壁面上均匀沉积的碳量子点修饰的聚吡咯导电膜;由二氧化钛或氮化钛纳米管内壁面上均匀沉积的碳量子点修饰的聚吡咯导电膜(1)、二氧化钛或氮化钛纳米管阵列(2)以及二氧化钛或氮化钛纳米管外壁面上均匀沉积的碳量子点修饰的聚吡咯导电膜(3)形成同心轴中空结构的纳米管复合材料。 |
地址 |
211189 江苏省南京市江宁区东南大学路2号 |