形成图案化薄膜之方法、制造光学元件之方法、制造电路板之方法及制造电子元件之方法;METHOD FOR FORMING A PATTERNED FILM, METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL COMPONENT, METHOD FOR MANUFACTURING CIRCUIT BOARD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC COMPONENT

摘要

所提供的方法可准确且简单侦测模具与基板的对准标记，因而提供高产量之形成图案化薄膜的方法，并且亦提供制造光学元件的方法、制造电路板的方法以及制造电子元件的方法。藉由光奈米压印而形成之图案化薄膜。在此方法中，气体满足以下不等式(1)：;在不等式(1)中，nR代表不含气体的组成物在光之波长的折射率，nR’代表含有该气体的该光可固化组成物在该光之波长的折射率，以及nM代表模具在该光之波长的折射率。;In the Inequality (1), nRrepresents the refractive index of a composition not containing a gas at the wavelength of light, nR’represents the refractive index of the photo-curable composition containing the gas at the wavelength of the light, and nMrepresents the refractive index of a mold at the wavelength of the light.