发明名称 |
提升应用值指标的X射线辐射成像安检系统 |
摘要 |
一种提升应用值指标的X射线辐射成像安检系统,包括:X射线源,配置用以发射X射线辐射束照射被检查对象;探测器,配置成探测从被检查对象散射或透射的X辐射束;检查通道,布置在X射线源和探测器之间,被检查对象在检查通道中沿第一方向通过检查通道以便接收检查;其中,X射线源布置在检查通道的一侧的沿第二方向的中间部位,探测器布置在检查通道的与X射线源相对的一侧,所述第二方向与第一方向正交。本实用新型的安检系统不需要对现有系统作大的调整即可以提高系统中射线的穿透力,解决现有的安全检查系统穿透力偏小的难题。 |
申请公布号 |
CN204166147U |
申请公布日期 |
2015.02.18 |
申请号 |
CN201420674591.6 |
申请日期 |
2014.11.06 |
申请人 |
同方威视技术股份有限公司 |
发明人 |
杨中荣;王涛;邓佳为 |
分类号 |
G01V5/00(2006.01)I;G01N23/04(2006.01)I |
主分类号 |
G01V5/00(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
吴敬莲 |
主权项 |
一种X射线辐射成像安检系统,其特征在于,包括:X射线源,配置用以发射X射线辐射束照射被检查对象;探测器,配置成探测从被检查对象散射或透射的X辐射束,检查通道,布置在X射线源和探测器之间,被检查对象在检查通道中静止放置或沿第一方向通过检查通道以便接收检查,其中,X射线源布置在检查通道的一侧的沿第二方向的中间部位,探测器布置在检查通道的与X射线源相对的一侧,所述第二方向与第一方向正交。 |
地址 |
100084 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层 |