沟槽隔离结构及其制造方法

摘要

本发明提供一种沟槽隔离结构的制造方法。在一基板上形成一硬式掩模层，其中硬式掩模层包括至少三层，且具有至少一开口以局部暴露出基板的一表面。经由开口蚀刻基板的表面，以在基板中形成具有一第一深度的一沟槽。在沟槽中形成一第一绝缘层。回蚀刻第一绝缘层，使第一绝缘层低于基板表面至一第二深度。在第一绝缘层上方形成一第二绝缘层，以填满沟槽。移除硬式掩模层。本发明所形成的沟槽隔离结构不具空隙或缝隙。

主权项

一种沟槽隔离结构的制造方法，包括下列步骤：在一基板上形成一硬式掩模层，其中该硬式掩模层包括至少三层，且具有至少一开口以局部暴露出该基板的一表面；经由该开口蚀刻该基板的该表面，以在该基板中形成具有一第一深度的一沟槽；在该沟槽中形成一第一绝缘层；回蚀刻该第一绝缘层，使该第一绝缘层低于该基板表面至一第二深度；在该第一绝缘层上方形成一第二绝缘层，以填满该沟槽；及移除该硬式掩模层。