发明名称 |
将氮化镓基发光二极管的外延结构表面粗化的方法 |
摘要 |
一种将氮化镓基发光二极管的外延结构表面粗化的方法,包括以下步骤:步骤1:取一外延结构;步骤2:配制一预定比例的混合溶液,将外延结构表面浸入混合溶液中,随即捞出;步骤3:烘干,从而在外延结构的表面形成规则排列的由混合溶液析出的颗粒掩膜;步骤4:以所述的颗粒掩膜作为掩膜,对外延结构表面进行刻蚀,使得外延结构表面粗糙化;步骤5:清洗去掉外延结构上的掩膜,完成粗化方法的制备。本发明的方法是与后工艺相互配合,可以提高发光二极管芯片的提取效率。该方法还具有制作工艺简单、成本极低,而且比较环保等优点。 |
申请公布号 |
CN102544289B |
申请公布日期 |
2013.12.18 |
申请号 |
CN201210056638.8 |
申请日期 |
2012.03.06 |
申请人 |
中国科学院半导体研究所 |
发明人 |
田婷;张逸韵;耿雪妮;李璟;伊晓燕;王国宏 |
分类号 |
H01L33/22(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/22(2010.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
汤保平 |
主权项 |
一种将氮化镓基发光二极管的外延结构表面粗化的方法,包括以下步骤:步骤1:取一外延结构;步骤2:配制一预定比例的混合溶液,将外延结构表面浸入混合溶液中,随即捞出,该混合溶液由氯化钠、水和乙醇配制,该混合溶液中的氯化钠饱和溶液和乙醇的体积比为1∶1‑1∶10;步骤3:烘干,从而在外延结构的表面形成规则排列的由混合溶液析出的颗粒掩膜;步骤4:以所述的颗粒掩膜作为掩膜,对外延结构表面进行刻蚀,使得外延结构表面粗糙化;步骤5:清洗去掉外延结构上的掩膜,完成粗化方法的制备。 |
地址 |
100083 北京市海淀区清华东路甲35号 |