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<p>Procedimiento para la fabricación de un revestimiento (1) sobre un sustrato (2), donde el revestimiento (1) estáconstituido por una capa funcional de múltiples estratos cerámica (3), la capa funcional cerámica (3) comprende unacapa columnar y el sustrato (2) contiene al menos un metal (Me), procedimiento en el que la capa funcional cerámica(3) se aplica en una cámara de procedimiento (6) usando un chorro de plasma (30) y usando un procedimiento depelícula delgada LPPS, caracterizado por que el sustrato (2) está constituido por una capa de adherencia sobre uncuerpo base fabricada por medio de un procedimiento LPPS, de un procedimiento de película delgada LPPS o de unprocedimiento PVD, de un material del grupo de las aleaciones MCrAIY, con M >= Ni, Co, CoNi o Fe, o de unaluminuro, en particular PtAl o PtNiAl, o de una fase intermetálica, en particular de un compuesto de NiAl y elrevestimiento (1) presenta una capa intermedia cerámica (4) que se encuentra entre el sustrato (2) y la capafuncional cerámica (3) y para la formación de la capa intermedia cerámica (4) se ajusta en la cámara deprocedimiento (6) una presión parcial de oxígeno en el intervalo de 0,01 mbar a 20 mbar y por que a unatemperatura de reacción ajustada del sustrato en el intervalo de 800ºC a 1200ºC y en presencia de oxígeno segenera de manera reactiva un óxido, que se obtiene con metal (Me) difundido en la superficie del sustrato (2) y lacapa intermedia (4) que se forma, como capa intermedia cerámica (4) con un espesor en el intervalo de 0,001 a 2μm y por que sobre esta capa intermedia (4) se deposita la capa funcional cerámica (3), donde la capa funcionalcerámica (3) se aplica con un procedimiento híbrido, con el que se aplican por proyección fases en forma de vapor ycondensadas de un material de revestimiento cerámico.</p> |
