| 发明名称 | 电介质陶瓷、电介质陶瓷的生产方法和电介质陶瓷生产用粉末的生产方法 | ||
| 摘要 | 一种电介质陶瓷，其包括主组分和副组分。所述主组分包括BaTi4O9结晶相和Ba2Ti9O20结晶相，由(BaO·xTiO2)表示，具有4.6至8.0的TiO2相对于BaO的摩尔比x，并且在X-射线衍射中，具有1以上的BaTi4O9结晶相最大衍射峰强度(I14)与Ba2Ti9O20结晶相最大衍射峰强度(I29)的X-射线衍射峰强度比I29/I14。所述副组分包括硼氧化物和铜氧化物，其中所述硼氧化物含量在0.5至5.0质量份的范围内，相对于100质量份所述主组分，所述铜氧化物含量在0.1至3.0质量份的范围内，相对于100质量份所述主组分。 | ||
| 申请公布号 | CN102219503A | 申请公布日期 | 2011.10.19 |
| 申请号 | CN201110084126.8 | 申请日期 | 2011.03.31 |
| 申请人 | TDK株式会社 | 发明人 | 中野贵弘;宫内泰治;中村知子 |
| 分类号 | C04B35/468(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I;H01B3/12(2006.01)I | 主分类号 | C04B35/468(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种电介质陶瓷，其包含：主组分，所述主组分含有BaTi4O9结晶相和Ba2Ti9O20结晶相并由组成式(BaO·xTiO2)表示，所述主组分具有TiO2相对于BaO的摩尔比x，所述摩尔比x在4.6至8.0的范围内，在X‑射线衍射中，所述主组分具有BaTi4O9结晶相的最大衍射峰强度(I14)与Ba2Ti9O20结晶相的最大衍射峰强度(I29)的X‑射线衍射峰强度比I29/I14，所述X‑射线衍射峰强度比I29/I14为1以上；和副组分，所述副组分含有硼氧化物和铜氧化物，其中所述硼氧化物的含量以B2O3计在0.5质量份至5.0质量份的范围内，相对于100质量份所述主组分，所述铜氧化物的含量以CuO计在0.1质量份至3.0质量份的范围内，基于100质量份所述主组分。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||