发明名称 | 电浆处理装置 | ||
摘要 | 一种电浆处理装置,包含一真空腔、一上电极、一下电极及一基座。上电极与下电极系设置于真空腔内。真空腔具有一底部,而基座设置于真空腔之底部,下电极则设置于基座上。基座与真空腔之底部形成一基座空间,而基座空间内之气流与真空腔之气流实质上隔绝。 | ||
申请公布号 | TW200905743 | 申请公布日期 | 2009.02.01 |
申请号 | TW096126899 | 申请日期 | 2007.07.24 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 郑志兴;罗时朋;陈振松;谢宗桦;赖宏裕 |
分类号 | H01L21/3065(2006.01) | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 蔡玉玲 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号 |