| 摘要 |
本发明揭示一种用于一微影装置之一基板支撑件之位置控制系统，该位置控制系统包括：一位置量测系统，其经组态以判定该基板支撑件上之一感测器或感测器目标之一位置；一控制器，其经组态以基于基板之一目标部分之一所要位置及该经判定位置来提供一控制信号；及一或多个致动器，其经组态以作用于该基板支撑件。该位置控制系统包括该基板支撑件之一硬度补偿模型，该硬度补偿模型包括由于一施加于该基板支撑件上之力而造成的该目标部分之一位置改变之一差异与该感测器或感测器目标之一位置改变之间的一关系。该位置控制系统经组态以使用该硬度补偿模型而至少在一经图案化辐射光束在该目标部分上之投影期间大体上校正该目标部分之该位置。 |
