阳光控制低辐射涂层溶液及其制备方法和用途

摘要

本发明涉及一种水性溶液体系的组成及用此溶液制备阳光控制低辐射涂层的方法，构成此涂层的溶液体系至少包含一种掺杂金属氧化物的纳米粒子和高分子成膜成份。该溶液体系的分散介质为水、水和醇类、水和醇类及酯类的混合溶液，分散介质不含苯、甲苯及毒害大的挥发成分；该涂层的制备为常压下成膜，处理温度不超过150摄氏度；如有必要，此涂层可复合其它薄膜以得到更佳阳光控制和低辐射的效果。溶液可直接涂敷于玻璃表面和有机材料表面，不受基材的形状和尺寸限制，具有良好的耐磨性。

主权项

1.一种阳光控制低辐射涂层溶液，其特征是：所述的涂层溶液体系中至少包含一种掺杂金属氧化物的纳米粒子，以及高分子成膜成份和紫外光吸收剂，其中，掺杂金属氧化物的纳米粒子在溶液中的含量为3～30wt％，高分子成膜成份在溶液中的含量为20～60wt％，紫外光吸收剂在溶液中的含量为0～10％；分散介质选自水；水和醇类或醇类衍生物的混合物，其中水与醇类或醇类衍生物的体积比大于0.6；水和醇类或醇类衍生物以及酯类或酯类衍生物的混合物，其中酯类或酯类衍生物的总量不高于总分散介质体积的20％；水和其它有机溶剂的混合物中的一种；所述的金属氧化物为氧化锡、氧化锌、氧化铟、氧化钛或氧化镉；所述的高分子成膜成份选自水溶性环氧酯、水溶性醇酸树脂、水溶性丙烯酸酯树脂、水溶性丁二酸树脂、丙烯酸酯乳液、苯-丙乳液、有机硅改性丙烯酸乳液、聚氨酯乳液、丙烯酸酯-聚氨酯共聚乳液、有机硅改性的聚氨酯乳液、环氧乳液、环氧改性的聚氨酯乳液、聚酯乳液、有机硅改性的环氧乳液、有机硅聚合物水溶液、有机硅聚合物乳液中的一种或两种；所述的分散介质中醇类或醇类衍生物选自：乙醇、甲乙醚、乙醚、乙二醇、异丙醇、正丙醇、丙二醇、丙二醇单甲醚、丙二醇二甲醚、丙二醇乙醚、丙二醇甲乙醚、正丁醇、丁二醇或戊二醇；所述的分散介质中酯类或酯类衍生物选自：甲酸甲酯、乙酸乙酯、甲酸乙酯、乙酸甲酯、乙二酸二甲酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、丙二酸甲乙酯或丙二酸二乙酯；所述的分散介质中其它有机溶剂选自：醋酸、乳酸、环氧六环、丙酮或环己酮，用量为分散介质重量的0～30％；所述的紫外光吸收剂选自氧化钛、氧化硅、氧化锡、氧化锌、氧化铁、氧化镉、氧化钨、氧化锰、氧化锆、氧化铝、苯并三唑、2-(2’-羟基-3’-叔丁基-5’-甲基苯基)-5-氯代苯并三唑、2-(2’-羟基-5’-甲基苯基)苯并三唑、2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮、N-(乙氧基羰基苯基)-N’-甲基-N’-苯基甲醚、N-(乙氧基羰基苯基)-N’-乙基-N’-苯基甲醚、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2，4-二羟基二苯酮、2-羟基-4-甲氧基-5-磺酸二苯酮、2-(2’-羟基-3’-叔丁基-5’-甲基苯基)-5-氯代苯并三唑中的一种或两种。