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发明名称
浸润微影系统、用于图案化半导体积体电路之浸润微影方法
摘要
本发明提供一种浸润微影系统,该系统包括:一影像镜头,具有一第一前表面;一基板底座,置于该影像镜头之前表面下方;一浸润流体保持结构,具有一个流体入口与一个流体出口,且用以保留来自一流体入口之一流体,以至少部分地填充位于影像镜头之前表面与基板底座上之基板之间的一空间,且使该流体由该流体出口流出;以及一微粒监控模组,与该浸润流体保持结构整合。
申请公布号
TW200743913
申请公布日期
2007.12.01
申请号
TW095143349
申请日期
2006.11.23
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
傅中其;徐树彬;张秀玉
分类号
G03F7/20(2006.01)
主分类号
G03F7/20(2006.01)
代理机构
代理人
洪澄文;颜锦顺
主权项
地址
新竹科学工业园区新竹市力行六路8号
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