使用批式制程腔室的基材处理装置

摘要

本发明的态样包含一种利用适于在一或多个批式及/或单一基材制程腔室中处理基材以增加该系统产能的多腔室制程系统(例如集结式机台)处理基材的方法及设备。在一实施例中，一系统是经配置以执行一基材制程程序，其仅含有批式制程腔室，或批式及单一基材制程腔室，以最佳化产能并最小化制程缺陷。在一实施例中，使用批式制程腔室来增加系统产能，通过在其中执行与该基材制程程序中其他制程配方步骤相比特别冗长的制程配方步骤。本发明的态样也包含一种传送前驱物至制程腔室的设备及方法，因此可重复执行ALD(原子层沉积)或CVD(化学气相沉积)沉积制程。

主权项

1.一种基材制程设备，其至少包含：一工厂接口，具有通常维持在常压下的传送区域；一冷却盘，其是适于加热及/或冷却一基材；一可批式处理的基材制程腔室，其是与该工厂接口的传送区域交流；以及一传送机械臂，位于该传送区域内，其是适于在该冷却盘和该可批式处理的基材制程腔室间传送一或多个基材。