蒸气收集方法及设备

摘要

用于处理移动的不定长基片(12)的设备(10a)及方法。该设备(10a)具有定位于所述基片(12)的表面(14)附近的控制表面(15)，从而在所述控制表面(15)和所述基片(12)之间限定出一控制间隙(G)。第一腔(17)定位于所述控制表面(15)附近，该第一腔(17)具有气体引入装置(21)。第二腔(16a)定位于所述控制表面(15)附近，该第二腔(16a)具有气体排出装置(18a)。所述控制表面(15)和所述两个腔(17、16a)一起限定出一区域，在该区域中，气体的质量流量受到控制，从而显著地减小了对气相组分的稀释程度。通过引入受控气流(M1’)，从而由于该系统中的压力梯度而减少了不受控的周围气流的流量，实现了上述目的。

主权项

1.一种用于处理移动的不定长基片的设备，其包括：(a)位于所述基片表面附近的控制表面，从而在该控制表面和所述基片之间限定出一控制间隙；(b)位于所述控制表面附近的第一腔，所述第一腔具有气体引入装置；(c)在所述控制表面附近的第二腔，所述第二腔具有气体排出装置，使得所述控制表面和所述两个腔限定出一区域，在该区域中，邻近气相具有一定量的物质；其中，在引导运送所述区域内的至少一部分所述物质时：M1表示由压力梯度所引起的进入或者离开所述区域的物质的单位宽度的总的净时间平均质量流量，M1’表示从所述气体引入装置通过第一腔进入所述区域的物质的单位宽度的总的净时间平均质量流量，M2表示从所述基片的至少一个主要表面进入所述区域的物质的单位宽度时间平均质量流量，M3表示由材料运动所引起的进入所述区域的物质的单位宽度的总的净时间平均质量流量，和M4表示通过所述气体排出装置所运送的物质的单位宽度的时间平均质量流量，使得M1+M1’+M2+M3＝M4。