| 主权项 |
1.一种光吸收剂,其特征系含有以有机金属配位阴 离子为对离子,分子内具有单甲川链或多甲川链之 第一种多甲川系染料;以有机金属配位阴离子以外 之阴离子为对离子,分子内具有单甲川链或多甲川 链之第二种多甲川系染料;甲金属配位化合物所 构成。2.如申请专利范围第1项之光吸收剂,其中第 一种多甲川系染料为以一般式1表示, 一般式1: (一般式1之Z1系杂环,Z2系与Z1相同或不同之杂环或 芳香环,这些杂环或芳香环可具有一个或多个取代 基,X1-系表示适当之有机金属配位阴离子,l及m系0 或1其中任一之整数,两者不同时为0)。3.如申请专 利范围第1或2项之光吸收剂,其中有机金属配位阴 离子为偶氮系有机金属配位阴离子。4.如申请专 利范围第1或2项之光吸收剂,其中第二种多甲川系 染料系以一般式2表示, 一般式2: (一般式2之Z3系杂环,Z4系与Z3相同或不同之杂环或 芳香环,这些杂环或芳香环可具有一个或多个取代 基,X2-系表示有机金属配位阴离子以外之适当的阴 离子,l′及m′系0或1其中任一之整数,两者不同时 为0)。5.如申请专利范围第1或2项之光吸收剂,其中 甲金属配位化合物系以一般式3表示之甲化合 物为配位基, 一般式3: (一般式3中,Z5为啶环,Z6系表示芳香环或杂环,Z7 系表示啶环、喃环或或脂肪族烃基,这些芳香 环、杂环、啶环、喃环及脂肪族烃基可具有 取代基)。6.如申请专利范围第1或2项之光吸收剂, 其中第一种多甲川系染料对第二种多甲川系染料 之重量比为1重量%以上。7.如申请专利范围第1或2 项之光吸收剂,其中甲金属配位化合物对第一种 及第二种多甲川系染料之总量之重量比为0.1重量% 以上。8.如申请专利范围第1或2项之光吸收剂,其 中在薄膜状态下,实质吸收波长700nm以下之可见光 。9.如申请专利范围第1或2项之光吸收剂,其中含 有一种或多种实质吸收可见光之其他之有机染料 化合物。10.如申请专利范围第9项之光吸收剂,其 中其他之有机染料化合物为五甲川染料系或七甲 川系花青染料。11.一种光记录媒体,其特征系含有 如申请专利范围第1.2.3.4.5.6.7.8.9或10项中任一项之 光吸收剂所成。12.如申请专利范围第11项之光记 录媒体,其系使用如申请专利范围第1.2.3.4.5.6.7.8.9 或10项中任一项之光吸收剂构成记录层。13.如申 请专利范围第11或12项之光记录媒体,其中写入光 使用波长700nm以下之可见光。14.如申请专利范围 第11或12项之光记录媒体,其中写入光使用波长400~ 450nm或波长630~680nm附近之雷射光。15.一种热变形 光记录媒体,其系藉由有机染料化合物构成记录层 ,且写入光使用波长700nm以下之可见光之光记录媒 体,其特征系含有如申请专利范围第1.2.3.4.5.6.7.8.9 或10项中任一项之光吸收剂所成。16.一种光记录 媒体,其特征系含有以有机金属配位阴离子为对离 子,分子内具有单甲川链或多甲川链之第一种多甲 川系染料;以有机金属配位阴离子以外之阴离子为 对离子,分子内具有单甲川链或多甲川链之第二种 多甲川系染料;及甲金属配位化合物所构成。17. 一种光记录媒体之制造方法,其特征系经由:将如 申请专利范围第1.2.3.4.5.6.7.8.9或10项中任一项之光 吸收剂溶解于氟化溶剂,或氟化溶剂与非氟化溶剂 之混合溶剂的步骤;及将前述步骤所得之溶液涂布 于基板上,将含有前述光吸收剂之均匀薄膜形成于 前述基板上的步骤。图式简单说明: 第1图系本发明之光吸收剂之溶液状态(实线)及薄 膜状态(虚线)之可见光吸收光谱。 第2图系实验例所使用之具有基板1.记录层2.反射 层3及保护板4之光记录媒体的概略图。 |
