| 发明名称 | 高数据密度光介质盘 | ||
| 摘要 | 一种高数据密度预记录光介质盘,该光盘的数据密度为每层至少7.5Gb,或者每层0.17Gb/cm<SUP>2</SUP>,其复现率使得平均凹坑深度等于1/4～1/8乘以(激光波长除以基底折光指数);或者一种数据密度为至少0.05Gb/cm<SUP>2</SUP>可擦写光介质盘,其中通过结合凹槽高度和左右侧壁角测量达到至少75%的复现率,而且其中该预记录或可擦写光盘的延迟率小于25nm/0.6mm基底厚度,按照ASTM D570测量的吸水率小于0.5%。 | ||
| 申请公布号 | CN1377501A | 申请公布日期 | 2002.10.30 |
| 申请号 | CN00811859.0 | 申请日期 | 2000.08.01 |
| 申请人 | 陶氏化学公司 | 发明人 | J·L·哈恩费尔德;G·D·帕森斯;M·A·琼斯 |
| 分类号 | G11B7/24 | 主分类号 | G11B7/24 |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 程伟 |
| 主权项 | 1.一种高数据密度的预记录光介质盘，该光盘的数据密度至少为每层光盘7.5Gb，或者每层0.17Gb/cm2，复现率使得平均凹坑深度等于1/4～1/8乘以(激光波长除以光盘折光指数)，而且其中该光盘的延迟率低于25nm/0.6mm基底厚度，按照ASTM D570测量的吸水率低于0.5％。 | ||
| 地址 | 美国密歇根州 | ||