| 摘要 |
<p>본 발명은 국소적 용도, 특히 피부 및/또는 모발의 광보호용 화장용 조성물에 관한 것으로, 화장용으로 허용 가능한 부형제 내에 하기를 포함함을 특징으로 한다 : (i) 벤조트리아졸 관능기를 갖는 하나 이상의 규소(silicon) 유도체로 이루어진 용해된 스크리닝 시스템 (dissolved screening system); (ii) 하나 이상의 신남산 유도체 및/또는 하나 이상의 살리실산 유도체로 구성된 용해 스크리닝 시스템 (solubilizing screening system); 상기 용해 스크리닝 시스템은 그 자체로 상기 용해된 스크리닝 시스템의 전체를 용해시키기에 충분한 양으로 존재한다. 본 발명은 또한 자외선 복사 효과에 대한 피부 및 모발의 보호 용도에 관한 것이다.</p> |
