| 发明名称 |
GAS CONTROL METHOD AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH1167671(A) |
申请公布日期 |
1999.03.09 |
| 申请号 |
JP19970222103 |
申请日期 |
1997.08.19 |
| 申请人 |
HITACHI LTD;HITACHI TOKYO ELECTRON CO LTD |
发明人 |
HIRASAWA WATARU;SUGIYAMA SHIGERU |
| 分类号 |
C23C16/44;C23C16/455;H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
