发明名称 |
ITO镀膜玻璃偏心轴旋转的平面磁控溅射装置 |
摘要 |
本实用新型涉及一种ITO镀膜玻璃偏心轴旋转的平面磁控溅射装置,其特征在于:它包括:ITO靶材(2)、无氧铜板(3)、永久磁铁(4)、磁铁基座(5)、靶座(6)、轴座(7)、偏心轴(9)和轴承座(10),所述无氧铜板(3)固定在靶座(6)内侧,ITO靶材(2)焊接固定在无氧铜板(3)内侧,磁铁基座(5)设置于靶座(6)内,与无氧铜板(3)平排布置,永久磁铁(4)固定在磁铁基座(5)内侧,轴承座(10)固定在磁铁基座(5)外侧,轴承(11)置于轴承座(10)内,轴座(7)固定在靶座(6)外侧,偏心轴(9)内端通过轴承(11)偏心连接于轴承座(10)内,中间穿置于轴座(7)。本实用新型靶材刻蚀的中心沟部被拉宽,靶材利用率达到了60%~70%,是原来的3倍。 |
申请公布号 |
CN200981848Y |
申请公布日期 |
2007.11.28 |
申请号 |
CN200620126297.7 |
申请日期 |
2006.10.20 |
申请人 |
江阴瑞兴塑料玻璃制品有限公司 |
发明人 |
朱春光;朱泉兴 |
分类号 |
C03C17/23(2006.01);C23C14/35(2006.01) |
主分类号 |
C03C17/23(2006.01) |
代理机构 |
江阴市同盛专利事务所 |
代理人 |
唐纫兰 |
主权项 |
权利要求书1、一种ITO镀膜玻璃偏心轴旋转的平面磁控溅射装置,其特征在于:它包括:ITO靶材(2)、无氧铜板(3)、永久磁铁(4)、磁铁基座(5)、靶座(6)、轴座(7)、偏心轴(9)和轴承座(10),所述无氧铜板(3)固定在靶座(6)内侧,ITO靶材(2)焊接固定在无氧铜板(3)内侧,磁铁基座(5)设置于靶座(6)内,与无氧铜板(3)平排布置,永久磁铁(4)固定在磁铁基座(5)内侧,轴承座(10)固定在磁铁基座(5)外侧,轴承(11)置于轴承座(10)内,轴座(7)固定在靶座(6)外侧,偏心轴(9)内端通过轴承(11)偏心连接于轴承座(10)内,中间穿置于轴座(7)。 |
地址 |
214401江苏省江阴市青阳镇工业园区圣杨路17号 |