| 发明名称 | OLED显示器件及其制备方法、显示面板和显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种OLED显示器件及其制备方法、显示面板和显示装置，以解决现有技术制备的AMOLED显示器件精化程度较低，导致显示面板分辨率低的问题。OLED显示器件的制备方法，包括：提供形成有阳极层和空穴注入层的衬底基板；采用纳米压印工艺在一金属基板上形成第一图案后作为第一掩膜板、以及在另一金属基板上形成第二图案后作为第二掩膜板；第一图案和第二图案为印刷或转印材料透过孔；利用第一掩膜板，在衬底基板上印刷或转印形成空穴传输层；利用第二掩膜板，在衬底基板上印刷或转印形成有机发光层；在完成上述步骤的衬底基板上形成电子传输层、电子注入层和阴极层。 | ||
| 申请公布号 | CN105098100A | 申请公布日期 | 2015.11.25 |
| 申请号 | CN201510354557.X | 申请日期 | 2015.06.24 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 杨久霞;白峰 |
| 分类号 | H01L51/56(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I | 主分类号 | H01L51/56(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 黄志华 |
| 主权项 | 一种OLED显示器件的制备方法，所述OLED显示器件对应一个像素单元，其特征在于，包括：提供形成有阳极层和空穴注入层的衬底基板；采用纳米压印工艺在一金属基板上形成第一图案后作为第一掩膜板、以及在另一金属基板上形成第二图案后作为第二掩膜板；其中，所述第一图案和所述第二图案为印刷或转印材料透过孔，所述第一图案用于制备与所述像素单元的亚像素对应的空穴传输层，所述第二图案用于制备与所述像素单元的亚像素对应的有机发光层；利用所述第一掩膜板，在所述衬底基板上印刷或转印形成所述空穴传输层；利用所述第二掩膜板，在所述衬底基板上印刷或转印形成所述有机发光层；在完成上述步骤的所述衬底基板上形成电子传输层、电子注入层和阴极层。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||