发明名称 |
微纳米散斑的制备方法和系统 |
摘要 |
本发明提出一种微纳米散斑的制备方法和系统,其中,该方法包括以下步骤:生成预设数量的散斑颗粒大小和/或散斑数目不同的数字散斑图,并从中选取至少一幅数字散斑图作为散斑模板;对待处理试件和目标试件的待处理区域进行预处理;将散斑模板导入散斑沉积设备;对待处理试件的待处理区域进行对焦,以获取当前放大倍数下的最优参数组;根据最优参数组调节散斑沉积设备,并根据散斑模板在目标试件的待处理区域沉积散斑。上述方法能够制备高质量微纳米散斑,提升散斑制备的可重复性、无损性和制备速度。 |
申请公布号 |
CN103808440A |
申请公布日期 |
2014.05.21 |
申请号 |
CN201410054817.7 |
申请日期 |
2014.02.18 |
申请人 |
清华大学 |
发明人 |
谢惠民;朱荣华;吴丹 |
分类号 |
G01L1/24(2006.01)I;G01B11/16(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I |
主分类号 |
G01L1/24(2006.01)I |
代理机构 |
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 |
代理人 |
张大威 |
主权项 |
一种微纳米散斑的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:生成预设数量的散斑颗粒大小和/或散斑数目不同的数字散斑图,并从中选取至少一幅所述数字散斑图作为散斑模板,其中,所述数字散斑图为二值图;对待处理试件和目标试件的待处理区域进行预处理,其中,所述目标试件与所述待处理试件的材质相同;将所述散斑模板导入散斑沉积设备;对所述待处理试件的待处理区域进行对焦,以获取当前放大倍数下的最优参数组;根据所述最优参数组调节所述散斑沉积设备,并根据所述散斑模板在所述目标试件的待处理区域沉积散斑。 |
地址 |
100084 北京市海淀区100084-82信箱 |